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                在建中的系列濕電子化學(xué)品
                Electronic chemical
                IPA

                清洗劑:異丙醇(IPA)

                應用 :半導體/液晶/OLED清潔劑

                PGMEA

                稀釋劑:丙二醇甲醚醋酸酯(PGMEA)

                應用:半導體/液晶顯示器/OLED稀釋劑、半導體和顯示器用光刻膠溶劑、半導體用硬膜自旋溶劑

                PM

                溶劑:丙二醇單甲醚 (PM)

                應用: 半導體/液晶顯示器/OLED稀釋劑、半導體光刻膠溶劑

                JPS-1300

                JPS-1300:正膠光刻膠剝離液

                應用:鋁板基的IC、FPD、Bump和MEMS行業(yè)中的正膠正光刻膠剝離工藝而設計的。 由于JPS1300具有穩定的化學(xué)性能和相當強的清洗性能,因此被廣泛應用于各種光刻膠的批量溶解和噴涂設備。

                JWT-73

                稀釋劑:JWT-73 光刻膠稀釋劑

                應用:替代“典型”光刻膠稀釋劑的候選材料,作為PGMEA獨家或其他混合溶劑在半導體和顯示行業(yè)。Jaewon根據其質(zhì)量要求和應用,提供不同等級的JWT-73。

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